電子ビーム露光装置および電子ビーム偏向方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-287896
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142351
出願日： 1993年11月17日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：

【要約】【目的】ビーム偏向の整定時間の短縮と補正の高速化を達成する。【構成】テストパターン16から電磁偏向器7の整定時間により発生する偏向誤差を検出する誤差検出手段17と、上記偏向誤差から静電偏向器8の偏向信号の補正用の補正データFを生成する補正データ生成手段18とを備える。CPU1に上記偏向誤差対応の補正データFを供給し、CPU1は静電偏向器8に上記補正データFを重畳した偏向データFB対応の偏向信号bを供給することにより誤差補正を行う。

請求項（抜粋）：

電子ビームを供給する電子銃と、前記電子ビームを露光対象の半導体基板の表面の所望位置を照射するよう偏向するための電磁偏向器である第1の偏向器と静電偏向器である第2の偏向器と、所望パターン対応の偏向データを格納したメモリと、前記メモリから前記偏向データの読出アドレスを生成するとともに装置全体の制御を行うCPUと、前記偏向データの供給に応答して第1および第2の偏向器対応の第1および第2の偏向信号を生成する第1および第2の偏向回路とを備える電子ビーム露光装置において、前記第1の偏向器が発生する偏向誤差を検出する偏向誤差検出手段と、前記偏向誤差量から前記第2の偏向信号の補正用の補正データを生成する補正データ生成手段とをさらに備えることを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , G21K 5/04 , H01J 37/147

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭63-239816
特開平1-136332
特開昭62-162340

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