特許

J-GLOBAL ID：200903090149189011

キチナーゼ遺伝子導入ベントグラスおよびその作出方法

発明者： 寺川 輝彦 ,  北原 珠緒 ,  長谷川 久和 ,  小池 勝 ,  高木 正道
出願人/特許権者： 北興化学工業株式会社
代理人 (1件)： 遠山 勉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-320404
公開番号（公開出願番号）：特開平8-172957
出願日： 1994年12月22日
公開日（公表日）： 1996年07月09日
要約：

【要約】【目的】 糸状菌を病原菌とする病害に対する抵抗性が増強されたベントグラスを効率よく作出する。【構成】 次の(A)〜(C)の各工程により、キチナーゼ遺伝子導入ベントグラスを作出する。(A)キチナーゼ遺伝子を包含する組換えDNAをベントグラスのプロトプラストに導入する工程、(B)工程(A)で組換えDNAが導入されたプロトプラストを培養して分裂細胞を形成させる工程、及び(C)工程(B)で得られた分裂細胞を、固体培地上で7〜30個/cm2の細胞塊密度で、かつ、好気的に培養してキチナーゼ遺伝子を保持する植物体に再生する工程。

請求項（抜粋）：

次の(A)〜(C)の各工程を含む、キチナーゼ遺伝子導入ベントグラスの作出方法。(A)キチナーゼ遺伝子をコードする遺伝子を包含する組換えDNAをベントグラスのプロトプラストに導入する工程、(B)工程(A)で組換えDNAが導入されたプロトプラストを培養して分裂細胞を形成させる工程、及び(C)工程(B)で得られた分裂細胞を、固体培地上で7〜30個/cm2の細胞塊密度で、かつ、好気的に培養してキチナーゼ遺伝子を保持する植物体に再生する工程。

IPC (3件)：

A01H 5/00 ,  C12N 9/24 ,  C12N 15/09 ZNA