電子部品洗浄液

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-028130
公開番号（公開出願番号）：特開2001-214200
出願日： 2000年02月04日
公開日（公表日）： 2001年08月07日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】シリコンとシリコン以外の金属とが表面に露出している電子部品の洗浄工程において好適に使用される電子部品用洗浄液の提供。【解決手段】水酸化物と、水と、金属の腐食抑制剤と、水溶性有機化合物と、下記一般式(I)及び/又は一般式(II)で表わされる化合物とを含む電子部品洗浄液。HO-((EO)x-(PO)y)z-H (I)(EOはオキシエチレン基、POはオキシプロピレン基、x及びyはx/(x+y)=0.05〜0.4を満足する整数を示し、zは正の整数を示す。)R-[((EO)x-(PO)y)z-H]m (II)(EO、PO、x、y、zは一般式(I)における定義と同じである。Rはアルコール又はアミンの水酸基の水素原子を除いた残基、又はアミノ基の水素原子を除いた残基を示し、mは1以上の整数を示す)

請求項（抜粋）：

水酸化物と、水と、金属の腐食抑制剤と、水溶性有機化合物と、下記一般式(I)及び/又は一般式(II)で表わされる化合物とを含む電子部品洗浄液。HO-((EO)x-(PO)y)z-H (I)(EOはオキシエチレン基、POはオキシプロピレン基、x及びyはx/(x+y)=0.05〜0.4を満足する整数を示し、zは正の整数を示す。) R-[((EO)x-(PO)y)z-H]m (II)(EO、PO、x、y、zは一般式(I)における定義と同じである。Rはアルコール又はアミンの水酸基の水素原子を除いた残基、又はアミノ基の水素原子を除いた残基を示し、mは1以上の整数をを示す)

IPC (7件)：

C11D 17/08 , C11D 7/06 , C11D 7/22 , C11D 7/26 , C11D 7/32 , C11D 7/34 , C11D 7/44

FI (7件)：

C11D 17/08 , C11D 7/06 , C11D 7/22 , C11D 7/26 , C11D 7/32 , C11D 7/34 , C11D 7/44

Fターム (19件)：

4H003AC06 , 4H003AC07 , 4H003AC13 , 4H003AC23 , 4H003BA12 , 4H003DA15 , 4H003EA21 , 4H003EA23 , 4H003EB03 , 4H003EB04 , 4H003EB07 , 4H003EB09 , 4H003EB19 , 4H003EB20 , 4H003EB21 , 4H003EB34 , 4H003EB46 , 4H003ED02 , 4H003FA15

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