特許

J-GLOBAL ID：200903090168631442

ネガ型フォトレジスト組成物

発明者： 楠本 武宏 ,  植田 裕治 ,  植木 裕美 ,  竹山 尚幹
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-015009
公開番号（公開出願番号）：特開平5-210239
出願日： 1992年01月30日
公開日（公表日）： 1993年08月20日
要約：

【要約】【目的】 遠紫外線及びエキシマーレーザー等の光源における露光領域において高感度及び高解像度を有するネガ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 式(I)-SO2 -SO2 - (I)で示される基を含む光酸発生剤、アルカリ可溶性樹脂及び、メチロール基もしくはメチロールエーテル基を含む架橋剤を含有してなるネガ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

式(I)-SO2 -SO2 - (I)で示される基を含む光酸発生剤、アルカリ可溶性樹脂及び、メチロール基もしくはメチロールエーテル基を含む架橋剤を含有してなるネガ型フォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/028 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027