特許
J-GLOBAL ID：200903090180703394
ジスアゾ化合物及びそれを含有する染料系偏光膜
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-175338
公開番号（公開出願番号）：特開2001-002631
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：
【要約】【課題】 偏光膜用の染料として有用なジスアゾ化合物、及び当該化合物を含有する染料系偏光膜を提供する。【解決手段】 遊離酸の形で表したときに、式(I)(式中、Aは、スルホ及び/又はカルボキシルを1若しくは2個有するフェニル又は1〜3個のスルホを有するナフチルを表し;[B]は、メチル及びメトキシから選ばれる1又は2個の基で置換されてもよいフェニレンを表し;Dは、スルホ及び/又はカルボキシルを1若しくは2個有し、さらにメチル、メトキシ及び水酸基から選ばれる基で置換されてもよいフェニルを表すか、又は1若しくは2個のスルホを有し、さらに水酸基で置換されてもよいナフチルを表し; R1 、R2 、R3 及びR4 はそれぞれ独立に、水素、低級アルキル又は低級アルコシキを表し;nは0又は1を表す)で示されるジスアゾ化合物及び、当該ジスアゾ化合物を偏光膜基材に含有してなる偏光膜が提供される。
請求項（抜粋）：
遊離酸の形で表したときに、下式(I)(式中、Aは、スルホ及びカルボキシルから選ばれる1個若しくは2個の水溶性基を有するフェニル又は1〜3個のスルホを有するナフチルを表し;[B]は、メチル及びメトキシから選ばれる1個若しくは2個の置換基で置換されていてもよいフェニレンを表し;Dは、スルホ及びカルボキシルから選ばれる1個若しくは2個の水溶性基を有し、さらにメチル、メトキシ及び水酸基から選ばれる置換基で置換されていてもよいフェニルを表すか、又は1個若しくは2個のスルホを有し、さらに水酸基で置換されていてもよいナフチルを表し;R1 、R2 、R3 及びR4 はそれぞれ独立に、水素、低級アルキル又は低級アルコシキを表し;nは0又は1を表す)で示されるジスアゾ化合物。
IPC (6件)：
C07C275/40
, C07C309/29
, C07C309/35
, C09B 43/124
, C09K 3/00
, G02B 5/30
C07C275/40
, C07C309/29
, C07C309/35
, C09B 43/124
, C09K 3/00 U
, G02B 5/30
2H049BA02
, 2H049BA29
, 2H049BB43
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB99
