特許
J-GLOBAL ID：200903090184760040
荷電ビーム描画装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-220494
公開番号（公開出願番号）：特開平9-063937
出願日： 1995年08月29日
公開日（公表日）： 1997年03月07日
要約：
【要約】【課題】本発明は、試料に対する描画精度を高くする。【解決手段】第2の照明レンズ3の励磁をセットし、このときの対物レンズ7の励磁を変化させて各ビームプロファイルを測定し、このうち対物レンズ励磁の焦点合わせ値よりも大きな範囲の値のときの各ビームプロファイルと小さな範囲の値のときの各ビームプロファイルと各面積差が最小となる第2の照明レンズ3の調整値に調整する。
請求項（抜粋）：
電子銃から出射される荷電ビームの進行路上に照明レンズや成形アパーチャ、対物レンズを配置し、前記成形アパーチャにより成形された成形ビームを試料上に結像して描画を行う荷電ビーム描画装置において、前記照明レンズの励磁を変化させ、かつこれら励磁において前記対物レンズの励磁を焦点合わせ値よりも大きな値又は小さな値に変化させたときの前記試料面位置における前記成形ビームの各ビームプロファイルを測定するプロファイル測定手段と、このプロファイル測定手段により測定された前記対物レンズ励磁の焦点合わせ値よりも大きな値のときの各ビームプロファイルと小さな値のときの各ビームプロファイルとの差が最小となる前記照明レンズの励磁に調整する照明レンズ調整手段と、を具備したことを特徴とする荷電ビーム描画装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L 21/30 541 B
, H01J 37/30 A
, H01L 21/30 541 M
, H01L 21/30 541 N
