特許
J-GLOBAL ID:200903090193862939
ゼオライトの合成
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
青山 葆 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-504852
公開番号(公開出願番号):特表2003-502267
出願日: 2000年06月15日
公開日(公表日): 2003年01月21日
要約:
【要約】界面活性剤を使用することによって、連通孔を有しその孔の開きが10または12個のシリカ4面体から形成される結晶性微多孔質シリカ系物質の合成時間を短縮することができる一般的方法を開示する。この方法はゼオライトが形成される反応混合物にカチオン、アニオンまたは中性の界面活性剤を添加することに基づく。加えてこの新規合成法は、ゼオライトの合成に用いられる反応剤の性能および得られた物質の安定性を増し、それによって結晶寸法を制御する。種々の微多孔性物質の成長に競争がある場合には、適当な界面活性剤を選択することによって競争している別の相に対して一つの相を有利にすることが可能である。
請求項(抜粋):
ゼオライトの合成混合物にカチオン、アニオンまたは中性の界面活性剤を混合することを特徴とする結晶化時間の短縮および結晶寸法の制御が可能なゼオライトの製造方法。
IPC (4件):
C01B 39/48
, C01B 39/26
, C07B 37/00
, C07B 41/02
FI (4件):
C01B 39/48
, C01B 39/26
, C07B 37/00
, C07B 41/02
Fターム (13件):
4G073CZ03
, 4G073CZ07
, 4G073CZ15
, 4G073CZ25
, 4G073CZ31
, 4G073CZ50
, 4G073FF01
, 4G073FF04
, 4G073FF07
, 4H006AA02
, 4H006AC20
, 4H006AC41
, 4H006BA71
前のページに戻る