特許

J-GLOBAL ID：200903090201492658

ドライ現像用ポジ型レジスト組成物

発明者： 高橋 純一 ,  日馬 征智 ,  高橋 俊彦 ,  柳原 健児
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
代理人 (1件)： 福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-081558
公開番号（公開出願番号）：特開平6-266101
出願日： 1993年03月12日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：

【要約】【目的】 シリル化および/またはゲルミル化の制御が容易で、現像性、レジストパターンの形状等に優れ、かつ露光部の現像残り、未露光部の膜減り等を解決したドライ現像用ポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 水酸基含有ベース樹脂および架橋剤を含有し、前記架橋剤は、光架橋剤と熱架橋剤との組合せからなることを特徴とするドライ現像用ポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

水酸基含有ベース樹脂および架橋剤を含有し、前記架橋剤は、光架橋剤と熱架橋剤との組合せからなることを特徴とするドライ現像用ポジ型レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/36 ,  H01L 21/027