特許

J-GLOBAL ID：200903090201722696

ジメチルエーテル作製方法およびジメチルエーテル合成反応装置

発明者： 本田 尚士
出願人/特許権者： 日本ガス株式会社
代理人 (4件)： 福田 賢三 ,  福田 伸一 ,  福田 武通 ,  加藤 恭介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-106615
公開番号（公開出願番号）：特開2004-307435
出願日： 2003年04月10日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】本発明は、原料ガスと懸濁した触媒溶液との接触面積を大きくすることを特徴とするジメチルエーテルの作製方法およびジメチルエーテル合成反応装置に関するものである。【解決手段】本発明のジメチルエーテル作製方法は、反応塔内において、原料ガスと、懸濁した触媒溶液とを直接接触させて反応させている。前記反応塔内における懸濁した触媒溶液は、その連続相に脈動、マイクロ波振動、超音波振動の少なくとも一つが重畳され、分散相気体の泡沫分散を促進させる。前記原料ガスは、懸濁した触媒溶液が反応する反応塔内で、分散相気体の泡沫と接触し、気-液界面積を増大させて、反応を促進させる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

原料ガスと懸濁した触媒溶液とを直接接触させてジメチルエーテルを作製するジメチルエーテル作製方法において、 原料ガスと懸濁した触媒溶液が反応する反応塔内で、懸濁した触媒溶液の連続相に脈動、マイクロ波振動、超音波振動の少なくとも一つを重畳して分散相気体の泡沫分散を促進させることにより、原料ガスと触媒溶液界面積を増大させることにより、反応速度を増加させてジメチルエーテルを作製することを特徴とするジメチルエーテルの作製方法。

IPC (2件)：

C07C41/01 ,  C07C43/04

FI (2件)：

C07C41/01 ,  C07C43/04 D

Fターム (20件)：

4H006AA02 ,  4H006AC43 ,  4H006BA02 ,  4H006BA05 ,  4H006BA07 ,  4H006BA10 ,  4H006BA12 ,  4H006BA14 ,  4H006BA16 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA91 ,  4H006BC10 ,  4H006BD81 ,  4H006BE30 ,  4H006GP01 ,  4H006GP30 ,  4H039CA61 ,  4H039CC30