特許

J-GLOBAL ID：200903090215692528

基板乾燥装置およびそれを備えた基板処理装置ならびに基板乾燥方法

発明者： 基村 雅洋
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-245602
公開番号（公開出願番号）：特開平11-087303
出願日： 1997年09月10日
公開日（公表日）： 1999年03月30日
要約：

【要約】【課題】 効率的な基板乾燥を行うことができる基板乾燥装置およびそれを用いた基板処理装置ならびに基板乾燥方法を提供する。【解決手段】 処理槽に貯留された純水DIWに基板Wを浸漬させ洗浄処理を行いつつIPA・N2供給部565からN2をキャリアガスとしてIPAベーパーを供給する(図5(c))。洗浄処理が終了すると基板Wを処理槽562内の純水DIWから引き上げ、IPAベーパー層を通過させ、基板Wに付着した大半の純水DIWを除去する(図5(e))。そして、N2供給部566より乾燥位置DRに位置する基板ガイド563c付近に向けてN2を供給し、その保持溝内に残った純水DIWを吹き飛ばす(図5(f))。これにより、IPAベーパーが洗浄処理中の純水に溶解しにくく、効率的に基板乾燥を行うことができる。

請求項（抜粋）：

処理液を貯留した処理槽に基板を浸漬した後に当該処理槽から前記基板を取り出して乾燥させる基板乾燥装置であって、前記処理槽から取り出された基板を乾燥させるための気体を供給する複数組の気体供給手段と、前記複数組の気体供給手段による気体の供給を基板の処理段階に応じて切り替える切り替え手段と、を備えることを特徴とする基板乾燥装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 351 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 341

FI (3件)：

H01L 21/304 351 C ,  H01L 21/304 351 V ,  H01L 21/304 341 T