特許

J-GLOBAL ID：200903090219345547

光学式位置検出装置

発明者： 川窪 功
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-021009
公開番号（公開出願番号）：特開平5-215574
出願日： 1992年02月06日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：

【要約】【目的】装置全体の小型化並びに低廉価が可能な光学式位置検出装置を提供することである。【構成】半導体基板10の上面には、光検出部11と、バッファ層12と、導波層13とが一体的に形成されている。この導波層13のにはコリメータレンズ14と、チャープグレーティング15と、ビームスプリッタ16とが形成されている。前記基板10の端面には、レーザダイオード17が取着され、かくして読取りヘッド18が構成されている。この読取りヘッド18に対して、相対的に移動可能に設けられるスケール(基準尺)20は、低反射率の基板に高反射率のマスクを平行な複数の直線をパターンとして形成され、移動物体に取着されて、この移動物体の移動に伴って、長手方向に移動可能となっている。

請求項（抜粋）：

読取りヘッドと、このヘッドに対して相対的に移動可能で反射パターンを有するスケールとを具備する光学式位置検出装置において、前記読取りヘッドは、半導体レーザと、この半導体レーザからの放射光を導びく導波層と、導波層にて導かれた光を前記スケールに集光させる薄膜回折格子と、スケールからの反射パターンに応じた反射光を受光してスケールの相対的移動を表す電気信号を出力する半導体受光素子とを同一半導体基板に配置することにより、一体化されていることを特徴とする光学式位置検出装置。

IPC (2件)：

G01D 5/38 ,  G01D 5/36

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-222905
  
• 特開昭63-277926
  
• 特開昭54-038851