特許

J-GLOBAL ID：200903090249726960

マイクロレンズの製造方法および半導体装置の製造方法

発明者： 佐野 義和 ,  高木 貢
出願人/特許権者： 松下電子工業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-254538
公開番号（公開出願番号）：特開平6-112454
出願日： 1992年09月24日
公開日（公表日）： 1994年04月22日
要約：

【要約】【目的】 マイクロレンズの製造方法において、マイクロレンズの間隔を詰めても隣接するレンズ樹脂材料が接触しないようにする。【構成】 基板上に熱溶融するレンズ樹脂材料からなる透明層8aを選択的に形成する工程と、透明層8aを熱溶融しマイクロレンズ8を形成する工程とを有し、熱溶融前の透明層8aを多角形でかつ辺の少なくとも一部8bが隣合う頂点d,e,f,gを結ぶ線より内側にある形状に形成する。

請求項（抜粋）：

基板上に熱溶融する透明層を選択的に形成する工程と、前記透明層を熱溶融しレンズを形成する工程とを有し、前記熱溶融前の透明層を多角形でかつ辺の少なくとも一部が隣合う頂点を結ぶ線より内側にある形状に形成することを特徴とするマイクロレンズの製造方法。

IPC (2件)：

H01L 27/14 ,  H01L 31/0232

FI (2件)：

H01L 27/14 D ,  H01L 31/02 D

引用特許：

審査官引用 (1件)

• マイクロレンズの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-203351   出願人：株式会社日立製作所, 日立デバイスエンジニアリング株式会社