特許
J-GLOBAL ID:200903090258706735

ハイドレートの製造方法および製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤田 考晴 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-069290
公開番号(公開出願番号):特開2000-256226
出願日: 1999年03月15日
公開日(公表日): 2000年09月19日
要約:
【要約】【課題】 ハイドレート形成物質と水とを効率的に反応させて高濃度のハイドレートを高速に生成しかつ回収する製造方法、およびその製造装置を提供する。【解決手段】 ハイドレート生成容器1内で水とハイドレート形成物質(例えばメタン)とをハイドレート生成容器1内で反応させてハイドレートを製造するに際して、水相Lにメタンを気泡Kとして供給することにより、メタンの一部はその気泡Kの気液界面から水相Lに吸収され、水と反応してメタンハイドレートMHに転化し、このハイドレートMHは、密度が水の密度より小さいので水相L中を浮上する。この高濃度のメタンハイドレート層MHを、ハイドレート生成容器1に設けた液層抜出口1cより水とともに抜出すことにより、輸送物量が大きく効率的に回収できる。
請求項(抜粋):
ハイドレート生成容器内で水とハイドレート形成物質とを水和反応させてハイドレートを製造する方法において、前記ハイドレート生成容器内の水相にハイドレート形成物質を気泡として供給するとともに、生成されて水相の液面近傍に浮かぶハイドレート層を水とともに回収することを特徴とするハイドレートの製造方法。
IPC (5件):
C07C 7/152 ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/02 ,  C10L 3/00
FI (5件):
C07C 7/152 ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/02 ,  C10L 3/00 Z
Fターム (10件):
4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AB44 ,  4H006AC90 ,  4H006AC93 ,  4H006AD16 ,  4H006AD33 ,  4H006BA50 ,  4H006BA51 ,  4H006BC10

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