特許

J-GLOBAL ID：200903090264547800

感光性樹脂組成物およびパターン形成方法

発明者： 宮本 真奈
出願人/特許権者： 京セラケミカル株式会社
代理人 (1件)： 諸田 英二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-039387
公開番号（公開出願番号）：特開2003-241377
出願日： 2002年02月18日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：

【要約】【課題】 アルカリ水溶液にて現像が可能なポジ型パターン形成能を有するポリベンゾオキサゾール前駆体組成物を提供する。【解決手段】 (A)次式のポリベンゾオキサゾール前躯体、(但し、R1 は、芳香族環を含む有機基であり、R2 は、芳香族基、複数の芳香族環が単結合又は-O-、-CO-、-SO2 -、-CH2 -若しくは-C(CF3 )2 -で結合された有機基であり、R3 は、不飽和結合を有する有機基であり、R4 は酸性を有する官能基の作用により脱離する有機基であり、そしてnは1以上の整数である)(B)上記のポリベンゾオキサゾール前躯体を製造するに用いる脱水縮合剤、(C)紫外線等の活性光線によって酸性官能基を発生する光酸発生剤および(D)溶剤からなる感光性樹脂組成物である。

請求項（抜粋）：

(A)次の一般式をもつポリベンゾオキサゾール前躯体、【化1】(但し、式中、R1 は、芳香族環を含む4価の有機基であり、R2 は、2価の芳香族基、複数の芳香族環が単結合された2価の有機基、又は複数の芳香族環が-O-、-CO-、-SO2 -、-CH2 -若しくは-C(CF3 )2 -で結合された2価の有機基であり、R3 は、不飽和結合を有する1価の有機基であり、R4 は酸性を有する官能基の作用により脱離する1価の有機基であり、そしてnは1以上の整数である)(B)上記の(A)ポリベンゾオキサゾール前躯体を安定して製造するにあたり用いる脱水縮合剤、(C)紫外線等の活性光線によって酸性を有する官能基を発生する光酸発生剤および(D)樹脂組成物とするための溶剤からなることを特徴とする感光性樹脂組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 601 ,  C08G 73/18 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/037 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/039 601 ,  C08G 73/18 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/037 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (61件)：

2H025AA04 ,  2H025AA10 ,  2H025AA20 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB26 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096EA02 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  4J043PA02 ,  4J043PA19 ,  4J043PB02 ,  4J043PB21 ,  4J043QB34 ,  4J043RA52 ,  4J043SA06 ,  4J043SA71 ,  4J043SB01 ,  4J043TA12 ,  4J043TA52 ,  4J043TB01 ,  4J043UA122 ,  4J043UA131 ,  4J043UA132 ,  4J043UB012 ,  4J043UB061 ,  4J043UB062 ,  4J043UB092 ,  4J043UB122 ,  4J043UB132 ,  4J043UB152 ,  4J043UB282 ,  4J043UB302 ,  4J043VA042 ,  4J043VA092 ,  4J043XA16 ,  4J043XA18 ,  4J043XA19 ,  4J043XB02 ,  4J043XB03 ,  4J043XB20 ,  4J043YA02 ,  4J043YA10 ,  4J043YB08 ,  4J043YB21 ,  4J043YB24 ,  4J043YB40 ,  4J043ZA23 ,  4J043ZB22