特許
J-GLOBAL ID：200903090266403415

排水の処理方法

発明者：
奥脇 昭嗣

奥脇 昭嗣 について

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吉岡 敏明

吉岡 敏明 について

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亀田 知人

亀田 知人 について


出願人/特許権者：
宇部マテリアルズ株式会社

宇部マテリアルズ株式会社 について


代理人 (1件)： 柳川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-338723
公開番号（公開出願番号）：特開2002-136965
出願日： 2000年11月07日
公開日（公表日）： 2002年05月14日
要約：
【要約】【課題】 実用的に無理のないコストで実現できるような簡単な装置を用いながらも、pHが3以下の酸性排水からアニオンを工業的に有利に固定除去することができる排水の処理方法を提供すること。【解決手段】 塩化物イオン、硝酸イオン、フッ化物イオン、及び硫酸イオンのうちの少なくとも一種のアニオンを含み、かつpHが3以下の排水に、下記の化学式:M2+1-XM3+XO(2+x)/2(但し、M2+は2価のカルシウムイオン又はマグネシウムイオンを、M3+は3価のアルミニウムイオン、鉄イオン、及びクロムイオンのうちのいずれか一種を表し、Xは0.2〜0.35を示す)で表され、岩塩型構造を持つ複合金属酸化物を接触させて、該複合金属酸化物にアニオンを固定する排水の処理方法。
請求項（抜粋）：
塩化物イオン、硝酸イオン、フッ化物イオン、及び硫酸イオンのうちの少なくとも一種のアニオンを含み、かつpHが3以下の排水に、下記の化学式:M2+1-XM3+XO(2+x)/2(但し、M2+は2価のカルシウムイオン又はマグネシウムイオンを、M3+は3価のアルミニウムイオン、鉄イオン、及びクロムイオンのうちのいずれか一種を表し、Xは0.2〜0.35を示す)で表され、岩塩型構造を持つ複合金属酸化物を接触させて、該複合金属酸化物にアニオンを固定することを特徴とする排水の処理方法。
IPC (7件)：
C02F 1/28 ,  B01J 41/10 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/58 ZAB ,  C02F 1/66 510 ,  C02F 1/66 521
FI (9件)：
C02F 1/28 E ,  B01J 41/10 ,  C02F 1/42 E ,  C02F 1/58 M ,  C02F 1/58 P ,  C02F 1/58 Q ,  C02F 1/58 ZAB L ,  C02F 1/66 510 L ,  C02F 1/66 521 S
Fターム (20件)：
4D024AA04 ,  4D024AB11 ,  4D024BA11 ,  4D024BA12 ,  4D024BA13 ,  4D024BA14 ,  4D025AA09 ,  4D025AB06 ,  4D025AB11 ,  4D025AB14 ,  4D025BA02 ,  4D038AA08 ,  4D038AB31 ,  4D038AB36 ,  4D038AB39 ,  4D038AB40 ,  4D038AB81 ,  4D038BB01 ,  4D038BB13 ,  4D038BB17
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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