特許
J-GLOBAL ID：200903090270948310
露光装置の位置合せ方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-345679
公開番号（公開出願番号）：特開平5-226219
出願日： 1991年12月27日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：
【要約】【目的】前工程のアライメントマークに被着する膜形成における形状の悪化に起因するアライメントマークの位置ずれを無視して位置合せが出来る。【構成】膜形成前にアライメントマークの位置及び形状を測定するステップ(A)と、膜を形成後にアライメントマークの位置及び形状を測定するステップ(D)と、両者の測定値を比較し計測値を補正するステップ(E,H)とを含みアライメントマークの正確の位置を算出して位置補正する。
請求項（抜粋）：
前工程における半導体基板におけるアライメントマークの相対位置及び形状を測定するステップと、前記半導体基板に膜を形成させた後に前記アライメントマークの相対位置及び形状を測定値と被着後の測定値と比較するステップと、比較による差値を補正して前記アライメントマークの位置を求めこの補正されたアライメントマークで位置合せするステップと含んでいることを特徴とする露光装置の位置合せ方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 311 M
, H01L 21/30 301 M
