微細加工装置用の光学系

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：光石俊郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-002622
公開番号（公開出願番号）：特開平7-205303
出願日： 1994年01月14日
公開日（公表日）： 1995年08月08日
要約：

【要約】【目的】走査や、マスクを使用することなく、直接2次元の露光を可能とした微細加工装置用の光学系を提供することを目的とする。【構成】 2次元に配列した多数のレーザ光源12aを有する面発光アレイ半導体12の各光源12aの照射光9をコリメートするマイクロレンズ13を設け、このマイクロレンズ13を介した照射光9を集光レンズ5で集光するとともに、レーザ光源12aを選択的に点減させることにより任意の広がりをもつ2次元の照射光9を照射し得るようにしたものである。

請求項（抜粋）：

感光硬化性樹脂液に光を照射することにより感光硬化性樹脂液を2次元的な面として固化させ、同様な手法で固化した固化樹脂層を積層することにより3次元の固化樹脂層を作製する微細加工装置に用いる微細加工装置用の光学系であって、2次元に配列した多数の光源を有するとともに各光源からの照射光を変調し得るように構成した面光源と、各光源に対応して配設され、各光源の照射光をコリメートするマイクロレンズとを有することを特徴とする微細加工装置用の光学系。

IPC (6件)：

B29C 67/00 , B23K 26/00 , B23K 26/06 , B29C 35/08 , C08F299/00 MRM , B29K105:24

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