処理方法および処理装置

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金田暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-160403
公開番号（公開出願番号）：特開2001-335936
出願日： 2000年05月30日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：

【要約】【課題】堆積膜の特性を低下させることなく、生産性よく、かつ低コストで堆積膜を形成可能な処理方法および処理装置を実現する。【解決手段】処理装置は、移動可能な可動反応容器部101と、可動反応容器部101の反応容器103に着脱可能に接続されて反応容器103内の気体を排気する排気部102とから構成される。反応容器103が防振機構105を介して架台104上に搭載され、架台104が、その下面に取り付けられたキャスター107によって移動可能に支持されている。被処理基体を収容した反応容器103を排気部102に向けて移動させる際に、反応容器103への振動が防振機構105によって吸収される。これにより、反応容器103内の構成部品に付着しているダストが離脱して反応容器103内の被処理基体に付着するということが防止される。

請求項（抜粋）：

被処理基体を収容した反応容器内の気体を排気する排気手段に向けて前記反応容器を移動させる工程と、前記排気手段の近傍に配置された前記反応容器を前記排気手段に着脱可能に接続する工程と、前記排気手段により前記反応容器内の気体を排気して前記反応容器内を減圧する工程と、減圧された前記反応容器内で前記被処理基体に対する処理を行う工程とを有する処理方法において、前記排気手段に向けて前記反応容器を移動させる工程で前記反応容器への振動を防振機構により吸収することを特徴とする処理方法。

IPC (7件)：

C23C 16/44 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , G03G 5/08 360 , H01L 21/203 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (7件)：

C23C 16/44 F , C23C 16/50 , C23F 4/00 Z , G03G 5/08 360 , H01L 21/203 S , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

Fターム (34件)：

2H068DA00 , 2H068EA24 , 4K030AA06 , 4K030BA30 , 4K030BB05 , 4K030BB12 , 4K030CA16 , 4K030DA06 , 4K030EA11 , 4K030FA01 , 4K030GA02 , 4K030GA12 , 4K030LA17 , 4K057DA01 , 4K057DA02 , 4K057DD03 , 4K057DM01 , 4K057DM38 , 4K057DM40 , 5F004AA16 , 5F004BC08 , 5F045AA03 , 5F045AA08 , 5F045AA11 , 5F045AA18 , 5F045AA19 , 5F045AD06 , 5F045AE15 , 5F045BB08 , 5F045DQ10 , 5F103AA01 , 5F103AA08 , 5F103RR01 , 5F103RR10

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