特許

J-GLOBAL ID：200903090279256837

表面処理品の製造方法

発明者： 別所 知之 ,  湯浅 基和
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-014428
公開番号（公開出願番号）：特開2000-212753
出願日： 1999年01月22日
公開日（公表日）： 2000年08月02日
要約：

【要約】【課題】 大気圧近傍の圧力の下で、且つ、過大な設備投資を必要とせず、薄膜と基材との密着性に優れた表面処理品を効率よく製造し、又、プラズマ処理による堆積物が少なくてすむ表面処理品の製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも一方の対向面に固体誘電体60〜63が設置された対向電極30/40、31/41間に処理用ガス90、91を導入して、大気圧近傍の圧力となし、対向電極間30/40、31/41にパルス化された電界を印加することにより、放電プラズマを発生させるとともに、前記対向電極30/40、31/41間に設けられた基材12、13をプラズマ処理する表面処理品14、15の製造方法であって、2枚の基材12、13を、それぞれ対峙された対向電極30/40、31/41又は固体誘電体60〜63に密着させて、2枚の基材12、13の間に処理用ガス90、91を連続して導入する。

請求項（抜粋）：

少なくとも一方の対向面に固体誘電体が設置された対向電極間に処理用ガスを導入して、大気圧近傍の圧力となし、対向電極間にパルス化された電界を印加することにより、放電プラズマを発生させるとともに、前記対向電極間に設けられた基材をプラズマ処理する表面処理品の製造方法であって、2枚の基材を、それぞれ対峙された対向電極又は固体誘電体に密着させて、2枚の基材の間に処理用ガスを連続して導入することを特徴とする表面処理品の製造方法。

IPC (4件)：

C23C 16/515 ,  C08J 7/00 306 ,  C23C 16/505 ,  C08L101:00

FI (3件)：

C23C 16/515 ,  C08J 7/00 306 ,  C23C 16/505

Fターム (29件)：

4F073AA28 ,  4F073BA15 ,  4F073BA24 ,  4F073BB01 ,  4F073CA01 ,  4F073CA06 ,  4F073CA07 ,  4F073CA08 ,  4F073CA69 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA11 ,  4K030AA16 ,  4K030AA18 ,  4K030BA42 ,  4K030BA44 ,  4K030BA46 ,  4K030BB13 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030GA14 ,  4K030JA09 ,  4K030JA11 ,  4K030JA16 ,  4K030KA14 ,  4K030KA30 ,  4K030KA47 ,  4K030LA11