特許

J-GLOBAL ID：200903090300500298

マスター情報担体およびその製造方法

発明者： 石田 達朗 ,  東間 清和 ,  宮田 敬三 ,  杉田 龍二 ,  領内 博
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 池内 寛幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-124257
公開番号（公開出願番号）：特開平10-312535
出願日： 1997年05月14日
公開日（公表日）： 1998年11月24日
要約：

【要約】【課題】 プリフォーマット記録される信号パターンに対応する凹凸パターンを最適化したマスター情報担体を提供すると共に、このようなマスター情報担体を安価に、効率良く生産するための凹凸パターン形成プロセスを提供する。【解決手段】 マスター情報担体の基体1の表面に、ディジタル情報信号に対応する凹凸形状が形成され、凹凸形状の少なくとも凸部に強磁性薄膜2が形成された情報担体であって、ディジタル情報信号のビット長さ方向における凸部の断面形状が、表面側を上底、基体側を下底とする台形であり、上底長さが下底長さより大きい。

請求項（抜粋）：

基体の表面にディジタル情報信号に対応する凹凸形状が形成され、前記凹凸形状の少なくとも凸部に強磁性薄膜が形成された情報担体であって、前記ディジタル情報信号のビット長さ方向における前記凸部の断面が、表面側を上底、基体側を下底とする台形であり、前記台形の上底が下底より短く、上底と下底との長さの差が高さの2倍以下であることを特徴とするマスター情報担体。

IPC (3件)：

G11B 5/84 ,  G11B 5/82 ,  G11B 5/596

FI (3件)：

G11B 5/84 Z ,  G11B 5/82 ,  G11B 5/596