特許
J-GLOBAL ID：200903090301489875
炭素材料作製方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-080503
公開番号（公開出願番号）：特開平5-209275
出願日： 1992年03月02日
公開日（公表日）： 1993年08月20日
要約：
【要約】【目的】 ダイヤモンドを含む炭素材料を容易に安価に形成する方法を提案する【構成】 ハロゲン化炭化水素および水素あるいは前記ハロゲン化炭化水素および水素と希釈ガスとして希ガスからなる原料を使用しかつ成膜時の圧力が100torr以下でプラズマCVD法により炭素材料を形成する、さらにハロゲン化炭化水素の濃度変化に基づく膜中不純物濃度の調整技術。
請求項（抜粋）：
プラズマCVDを用いたダイヤモンドを含む炭素材料またはダイヤモンド材料の作製方法であってハロゲン化炭化水素および水素あるいは前記ハロゲン化炭化水素および水素と希釈ガスとして希ガスからなる原料を使用しかつ成膜時の圧力が100torr以下であることを特徴とする炭素材料作製方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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