脱気液体の製造方法とその装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-290917
公開番号（公開出願番号）：特開2001-104942
出願日： 1999年10月13日
公開日（公表日）： 2001年04月17日
要約：

【要約】【課題】超音波処理装置が大型化することなく且つ窒素ガスを供給し脱酸素する方法にも有効に適用できる、特に脱酸素用の脱気水の製造装置の提供。【解決手段】原子力プラント、火力プラント、食品プラント、半導体製造施設等において使用される水であり、脱気される気体が主として酸素である脱酸素水の製造装置において、超音波振動子を利用して原水にキャビテーションを起こさない程度の弱い超音波照射を施す超音波処理室を、窒素ガスを供給し脱酸素する脱気装置の給水側に設け、前記超音波処理室で、脱気しやすい水に改質後、脱気装置内で窒素ガスを供給し脱酸素することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

原液にキャビテーションを起こさない程度の弱い超音波照射を施して、脱気しやすい液に改質後、所定の脱気を行なうことを特徴とする脱気液体の製造方法。

IPC (4件)：

C02F 1/20 , A23L 3/30 , B01D 19/00 , C02F 1/36

FI (5件)：

C02F 1/20 A , A23L 3/30 , B01D 19/00 C , B01D 19/00 F , C02F 1/36

Fターム (19件)：

4B021LA42 , 4B021LT03 , 4B021MC04 , 4B021MK01 , 4B021MK13 , 4B021MP01 , 4B021MQ02 , 4B021MQ03 , 4D011AA15 , 4D011AA18 , 4D011AB01 , 4D011AC06 , 4D011AD03 , 4D037AA08 , 4D037AB11 , 4D037BA23 , 4D037BA24 , 4D037BA26 , 4D037BB05

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