特許
J-GLOBAL ID：200903090309578133
回転処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
浅井 章弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-114047
公開番号（公開出願番号）：特開平5-291232
出願日： 1992年04月07日
公開日（公表日）： 1993年11月05日
要約：
【要約】【目的】 被処理体から飛散する処理液がフィルタ手段に付着してこの機能が損なわれることを防止する。【構成】 箱状の筺体50内に処理液の付着した被処理体Wを回転可能に保持する被処理体保持機構52を収容し、この筺体50の上部に気体導入口54を形成する。この気体導入口54に導入される気体Gを清浄化するためのフィルタ手段56を設けると共にこの筺体内側に例えばパンチング板等よりなる被液防止手段68を設ける。これにより、被処理体Wから飛散する処理液がフィルタ66に付着することを防止する。
請求項（抜粋）：
筺体内に収容された処理液の付着した被処理体を回転保持しつつ前記筺体内に気体を流通させて前記被処理体の処理を行う回転処理装置において、前記筺体の一側に気体導入口を形成し、前記気体導入口にこれに導入される前記気体を清浄化するフィルタ手段を設けると共に前記フィルタ手段の筺体内側に前記被処理体から飛散する処理液が前記フィルタ手段に付着することを防止する被液防止手段を設けるように構成したことを特徴とする回転処理装置。
引用特許：
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