特許

J-GLOBAL ID：200903090315594809

プロセスカートリッジ及び画像形成装置及び画像形成システム

発明者： 野村 義矢 ,  河口 秀司 ,  松田 健司 ,  三宅 博章 ,  杉浦 義則 ,  天白 千歳
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 中川 周吉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-123240
公開番号（公開出願番号）：特開平6-317963
出願日： 1993年04月28日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 画像形成装置本体に直接装着でき、取り外し時に装置本体側のギアとカートリッジ側の被駆動ギアの食い込みが解除されるプロセスカートリッジを提供すること。【構成】 画像形成装置本体に装着可能なプロセスカートリッジにおいて、フレームと、像担持体と、前記像担持体を保護するシャッター24Cと、保護位置と前記保護位置から退避する退避位置とを揺動可能なシャッターと、前記フレームに設けられた、前記シャッターを前記像担持体を保護する保護位置と前記保護位置から退避する退避位置とを揺動可能に支持する支持手段と、前記シャッターを前記保護位置方向へ付勢する弾性手段と、プロセスカートリッジを画像形成装置本体に装着する際に、装置本体側と接触して前記弾性手段の弾性力に抗して前記シャッターを前記退避位置へ移動させる力を受ける受け部とを有する。

請求項（抜粋）：

画像形成装置本体に装着可能なプロセスカートリッジにおいて、フレームと、像担持体と、前記像担持体を保護するシャッターと、保護位置と前記保護位置から退避する退避位置とを揺動可能なシャッターと、前記フレームに設けられた、前記シャッターを前記像担持体を保護する保護位置と前記保護位置から退避する退避位置とを揺動可能に支持する支持手段と、前記シャッターを前記保護位置方向へ付勢する弾性手段と、プロセスカートリッジを画像形成装置本体に装着する際に、装置本体側と接触して前記弾性手段の弾性力に抗して前記シャッターを前記退避位置へ移動させる力を受ける受け部と、を有することを特徴とするプロセスカートリッジ。

IPC (7件)：

G03G 15/00 556 ,  G03G 15/00 554 ,  B41J 2/44 ,  B41J 29/12 ,  G03G 15/02 101 ,  G03G 15/08 ,  G03G 21/00 310

FI (2件)：

B41J 3/00 D ,  B41J 29/12 Z

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平4-149562
  
• 特開平1-179952
  
• プロセスカートリツジ及び前記プロセスカートリツジを装着可能な画像形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-062305   出願人：キヤノン株式会社
• 特開平1-191861
  
• 特開平3-252663