特許
J-GLOBAL ID：200903090317113328
プラズマ装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
亀谷 美明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-085494
公開番号（公開出願番号）：特開平6-275567
出願日： 1993年03月19日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：
【要約】【目的】 簡単な構造で、高密度、高均一、大口径のプラズマを発生するためのプラズマ装置を提供する。【構成】 本発明に基づくプラズマ装置(1)は、プラズマ処理のための処理室(2)と、その処理室内のプラズマ処理空間を横切るようなカスプ磁界を形成するカスプ磁界形成手段(10、11)と、プラズマ処理空間を取り囲むように配置されプラズマ処理空間に形成されたカスプ磁界面にほぼ沿ってプラズマ流を供給可能なプラズマ発生手段(20、30)とを備え、上記プラズマ発生手段が、上記プラズマ処理空間に対して外方に配置されたカソード手段(20)から放出された電子流をアノード手段(30)に設けられた開口部(31)を貫通させることにより、発生したプラズマ流を上記プラズマ処理空間に供給するように構成されている。かかる簡単な構成により、カスプ磁界により高均一、高密度のシート状にされ、かつ穏やかなプラズマを得ることができる。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理を実施するべく気密に構成された処理室と、その処理室内のプラズマ処理空間を横切るようなカスプ磁界面を有するカスプ磁界を形成可能なカスプ磁界形成手段と、上記プラズマ処理空間を取り囲むように配置され、上記プラズマ処理空間に形成された上記カスプ磁界面にほぼ沿ってプラズマ流を供給可能なプラズマ発生手段とを備え、上記プラズマ発生手段が、上記プラズマ処理空間に対して外方に配置されたカソード手段から放出された電子流をアノード手段に設けられた開口部を貫通させることにより、発生したプラズマ流を上記プラズマ処理空間に供給するように構成されていることを特徴とする、プラズマ装置。
IPC (2件)：
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