特許
J-GLOBAL ID:200903090321411236

半導体製品の製造工程管理システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 根本 進
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-097621
公開番号(公開出願番号):特開平9-260228
出願日: 1996年03月26日
公開日(公表日): 1997年10月03日
要約:
【要約】【課題】 半導体製品の製造工程における人為的なミスを防止し、その歩留りを向上させる事ができ、オペレータを工程マニュアル等の印刷物や特定場所に設置してあるコンピュータ端末等から物理的に解放し、目的の工程に集中させ、効率を向上し、半導体製品の製造コストを減少させることができる半導体製品の製造工程管理システムを提供する。【解決手段】 半導体製品の製造装置Mによる処理対象ワークW、および、その製造装置MのオペレータPそれぞれの識別信号を、それぞれの位置において発信し、各識別信号を、そのオペレータPに装着可能な読み取り手段21により読み取る。その読み取られた識別信号を、そのワークWとオペレータPとの対応関係を含む記憶された工程情報と照合し、その照合結果に応じた信号を出力する。
請求項(抜粋):
半導体製品の製造装置による処理対象ワークの識別信号を、そのワークの位置において発信する手段と、その製造装置のオペレータの識別信号を、そのオペレータの位置において発信する手段と、そのオペレータに装着可能な前記各識別信号の読み取り手段と、前記ワークとオペレータとの対応関係を含む工程情報を記憶する手段と、その工程情報と、前記読み取り手段により読み取られた識別信号との照合結果に応じた信号を出力する手段とを備える半導体製品の製造工程管理システム。

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