特許
J-GLOBAL ID：200903090323774476
表面分析装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩野入 章夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-302578
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159302
出願日： 1993年12月02日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 実深さのデータによる正確なデプスデータを求めることができる表面分析装置を提供する。【構成】 試料Sの表面を切削して深さ方向の表面分析を行う表面分析装置において、プローブ照射による試料S表面からの放出を検出して試料表面の成分分析を行ってデプスデータを検出する検出装置1と、該試料表面の高さ方向のデータを測定して実深さデータを検出する走査型プローブ顕微鏡(STM)2とにより構成し、走査型プローブ顕微鏡(STM)2で測定された実深さデータを、検出装置1で測定されたデプスデータの深さ方向のデータとする。
請求項（抜粋）：
試料表面を切削して深さ方向の表面分析を行う表面分析装置において、プローブ照射による試料表面からの放出を検出して試料表面の成分分析を行ってデプスデータを検出する検出装置と、該試料表面の深さ方向のデータを測定して実深さデータを検出する走査型プローブ顕微鏡とにより構成し、前記実深さデータを前記デプスデータの深さ方向のデータとすることを特徴とする表面分析装置。
IPC (3件)：
G01N 1/32
, G01B 7/26
, G01N 23/227
