特許

J-GLOBAL ID：200903090336303871

集積センサアレイの製造方法

発明者： ペール-エリック フェイェーマン
出願人/特許権者： ノーディック センサー テクノロジーズ アーベー
代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-014955
公開番号（公開出願番号）：特開2000-221161
出願日： 2000年01月24日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：

【要約】【課題】 集積センサアレイを、品質、制御性、再現性よく製造する。【解決手段】 リフトオフ手法、シャドウマスク手法を同時に用いて、個々に異なる感応面を持つセンサアレイを作製する。リフトオフオフ法により、コーティングがなされるべきすべての領域11に対して開口部12を有するレジスト層13を形成する。シャドウマスク15はある特定のコーティングのための堆積が行われる開口部にのみ窓14を保持するために利用される。その後、例えば蒸着によって、レジストの開口部12があり、かつシャドウマスク15の窓14がある領域11にコーティングが行われる。シャドウマスク15は、次に堆積が行われる領域に移動され、その手順がすべてのコーティングが終了するまで繰り返される。

請求項（抜粋）：

共通する基板上に集積センサアレイを製造する方法であって、該基板の表面上に、該基板上の、次の手順で堆積が行われるすべての領域に対して開口部を有するレジストマスクを形成し、第一のシャドウマスクを前記レジストマスクの上方に配し、該シャドウマスクが、堆積がされるべきでないレジストマスクのすべての開口部を覆い、もしくは保護している状態で、第一の材料の堆積を行って、堆積が行われるべき領域のみを残し、その後、第二のシャドウマスクを前記基板の前記レジストマスクの上方に配し、該第二のシャドウマスクによって覆われていない前記基板上の前記レジストマスクの開口部の領域に対して第二の堆積を行い、さらなるシャドウマスクにより、処理されるべき前記レジストマスクの所望の開口部を露出させ、前記レジストマスクの異なる開口部についてすべての堆積、もしくは、他の処理がなされた後、最後のシャドウマスクを除去し、さらに、前記レジストマスクを除去することを特徴とする集積化センサアレイの製造方法。