特許
J-GLOBAL ID：200903090336381139
アライメントパターンを有するパターン版の描画方法及びその方法によつて描画されたパターン版
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-303412
公開番号（公開出願番号）：特開平5-142746
出願日： 1991年11月19日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【目的】 アライメントパターンを有するパターン版において、アライメントパターンと本パターンの位置関係が精度良く、本パターンの歪みが少なく描画できる描画方法。【構成】 レチクルパターン、シャドウマスクパターン等の本パターンBとアライメントパターンA1、A2、A3を有するパターン版を描画する際、予め基板1に最終製品のアライメントパターンA1、A2、A3を形成しておき、基板1に感光層2を塗布し、次いで、基板1のアライメントパターンA1、A2、A3の位置を読み取り、その位置に対して描画ビームの相対位置を制御しながら本パターンBを描画する。
請求項（抜粋）：
レチクルパターン、シャドウマスクパターン等の本パターンとアライメントパターンを有するパターン版の描画方法において、予め基板に最終製品のアライメントパターンを形成しておき、基板に感光層を塗布し、次いで、基板のアライメントパターンの位置を読み取り、その位置に対して描画ビームの相対位置を制御しながら本パターンを描画することを特徴とするアライメントパターンを有するパターン版の描画方法。
IPC (4件)：
G03F 1/08
, G03F 1/00
, G03F 9/00
, H01L 21/027
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 M
