特許
J-GLOBAL ID：200903090342663782
荷電粒子流照射装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-232272
公開番号（公開出願番号）：特開平5-047870
出願日： 1991年08月20日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：
【要約】【目的】 絶縁体試料表面の帯電を防止することを可能にした荷電粒子流照射装置を提供することを目的としている。【構成】 内部を減圧可能な容器101と、容器101内に配設される保持部上の被照射物103に向けて荷電粒子流を照射するための照射手段102とを備えて成る荷電粒子照射装置において、前記容器内に導入されるガス体に紫外光を投光するための投光手段105を設けたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
内部を減圧可能な容器と、容器内に配設される保持部上の被照射物に向けて荷電粒子流を照射するための照射手段とを備えて成る荷電粒子照射装置において、前記容器内に導入されるガス体に紫外光を投光するための投光手段を設けたことを特徴とする荷電粒子流照射装置。
引用特許：
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