特許

J-GLOBAL ID：200903090346915883

電子線、X線又はEUV用ネガ型レジスト組成物

発明者： 阿出川 豊
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-223205
公開番号（公開出願番号）：特開2004-062044
出願日： 2002年07月31日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：

【課題】電子線、X線又はEUV光の照射によるパターン形成において、高感度、高解像力で、現像欠陥が低減されたネガ型レジスト組成物、更には、EUV光のような軟X線を光源とした場合でも、高感度、高解像力、良好なプロファイル、現像欠陥が低減されるとともに、ラインエッジラフネスが良好なネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】特定の繰り返し単位を含有するブロック単位Aとアルカリ溶解性基を含有しないブロック単位Bを含有するアルカリ可溶性ブロック共重合体、電子線、X線又はEUV光の照射により酸を発生する化合物、及び酸により架橋する架橋剤を含有することを特徴とする電子線、X線又はEUV用ネガ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)で表される繰り返し単位を含有するブロック単位Aとアルカリ溶解性基を含有しないブロック単位Bを含有するアルカリ可溶性ブロック共重合体、 (B)電子線、X線又はEUV光の照射により酸を発生する化合物、及び (C)酸により架橋する架橋剤 を含有することを特徴とする電子線、X線又はEUV用ネガ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F7/038 ,  C08F293/00 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/038 601 ,  C08F293/00 ,  H01L21/30 502R

Fターム (36件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025FA17 ,  4J026HA03 ,  4J026HA06 ,  4J026HA08 ,  4J026HA11 ,  4J026HA12 ,  4J026HA23 ,  4J026HA29 ,  4J026HA38 ,  4J026HB03 ,  4J026HB06 ,  4J026HB11 ,  4J026HB12 ,  4J026HB23 ,  4J026HB29 ,  4J026HB38 ,  4J026HB45 ,  4J026HC06 ,  4J026HC08 ,  4J026HE02