特許
J-GLOBAL ID：200903090358975628
回転炉のガス供給方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-222190
公開番号（公開出願番号）：特開2000-055563
出願日： 1998年08月06日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：
【要約】【課題】 簡単な構造で炉床面上の被処理物に対して燃焼空気等のガスを集中的に供給し、被処理物の流れを阻害しないようにすること。【解決手段】 回転可能な円筒状炉体1に燃焼空気等のガスを供給するための複数のガス供給口2が周方向所定間隔をおいて形成されると共に、炉体1に外嵌する風箱3に複数のガス流入口5が周方向所定間隔をおいて形成され、各ガス供給口2とそれに対向する各ガス流入口5とが複数の連通管6を介して互いに連通され、各ガス流入口5に支持ピン15を介して開閉蓋16が回動可能に吊り下げられており、炉体1の回転に伴って、開閉蓋16により、該炉体1の頂部から底部に移動される各ガス流入口5の開度を徐々に広げると共に、その炉体1の底部から頂部に移動される各ガス流入口5の開度を徐々に狭めるようにした。
請求項（抜粋）：
回転可能な円筒状炉体に燃焼空気等のガスを供給するための複数のガス供給口が周方向所定間隔をおいて形成された回転炉において、前記炉体を一方向に回転させ、その回転に伴って炉体の頂部から底部に移動される各ガス供給口から供給するガス供給量を徐々に増加させると共に、炉体の底部から頂部に移動される各ガス供給口から供給するガス量を徐々に減少させることを特徴とする回転炉のガス供給方法。
Fターム (4件)：
4K061AA08
, 4K061CA21
, 4K061DA03
, 4K061DA10
