特許

J-GLOBAL ID：200903090360729022

光導波路の形成方法及び光学素子の光結合方法

発明者： 塚本 浩司 ,  吉村 徹三 ,  石塚 剛 ,  本吉 勝貞
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-060770
公開番号（公開出願番号）：特開平8-262265
出願日： 1995年03月20日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：

【要約】【目的】光導波路の形成方法に関し、加工精度が良く、スループットを向上すること。【構成】光学素子1の端面に感光性物質3を塗布する工程と、前記光学素子1内から前記感光性物質3に感光用の光を照射する工程と、前記感光性物質3のうち光が照射されなかった部分を溶剤によって除去するとともに、光が照射された部分を導波路4として残存させる工程を含む。

請求項（抜粋）：

光学素子の端面に感光性物質を塗布する工程と、前記光学素子内から前記感光性物質に感光用の光を照射する工程と、前記感光性物質のうち光が照射されなかった部分を溶剤によって除去するとともに、光が照射された部分を導波路として残存させる工程とを有する光導波路の形成方法。

IPC (3件)：

G02B 6/30 ,  G02B 6/10 ,  G02B 6/42

FI (3件)：

G02B 6/30 ,  G02B 6/10 D ,  G02B 6/42