特許

J-GLOBAL ID：200903090366985926

露光装置

発明者： 上澤 史且
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-331396
公開番号（公開出願番号）：特開平11-162824
出願日： 1997年12月02日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：

【要約】【課題】 露光プロセスを煩雑化することなく、露光装置の焦点深度を拡大する。【解決手段】 光源1は、所定の帯域幅を有する光を照射する。濾光手段2は、所望の焦点距離と、レンズ4の光学的な特性とに応じて決定される複数の波長帯域の光を透過させ、マスク3に入射させる。マスク3は、形成しようとする回路パターンに応じて、入射光を透過または遮断し、レンズ4に対して射出する。レンズ4は、マスク3を透過した光を所定の倍率で収斂させて、被加工物5の加工領域に対して照射する。

請求項（抜粋）：

光源から射出された光を、所定のパターンが形成されたマスクと、レンズとを介して被加工物に照射し、前記被加工物に前記パターンを転写する露光装置において、前記光源から射出された光のうち、複数の波長帯域の光を選択的に透過させる濾光手段を、前記光源と前記マスクとの間に設けたことを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207

FI (4件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/207 H ,  H01L 21/30 502 P