特許

J-GLOBAL ID：200903090373597010

オルガノシリコンの側鎖を含むターポリマーおよびレリーフ構造を作成するためのその使用

発明者： ウルリヒ・シエーデリ ,  エーリク・テインゲリ ,  マンフレート・ホーフマン ,  パスクアーレ・アルフレツド・フアルチーニヨ ,  カール-ローレンツ・メルテスドルフ
出願人/特許権者： オリン・マイクロエレクトロニツク・ケミカルズ・インコーポレイテツド
代理人 (1件)： 高木 千嘉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-208028
公開番号（公開出願番号）：特開平9-110938
出願日： 1996年08月07日
公開日（公表日）： 1997年04月28日
要約：

【要約】【課題】 新規なターポリマーとその用途。【解決手段】 このターポリマーは式(I)の繰返し構造単位の20〜70モル%、式(II)の繰返し構造単位および式(III)の繰返し構造単位の3〜40モル%を含有する。【化1】ここでAは単結合手またはつぎの式の基を示し:【化2】R1は水素原子またはメチル基を示し:R2は2-フラニルオキシ基または2-ピラニルオキシ基などを示し:R3は式-COOHまたは-CNの基を示し:R4はつぎの式の各基から選ばれる基を示し:【化3】Yは水素原子または塩素原子またはメチル基を示し、Zは式-OSi(CH3)3の基を示し、mは1、2または3を示し、nは3-mを示し、そしてpは0、1、2または3を示し、そしてここで式(III)の多数の構造単位はターポリマー中のシリコン含有量が、7〜20重量%の量となる程度に含まれる。このターポリマーはポジ型のホトレジストの製作のために用いられる。

請求項（抜粋）：

式(I)の繰返し構造単位の20〜70モル%と、式(II)および式(III)の繰返し構造単位の3〜40モル%とを含有するターポリマー。【化1】ここでAは直接の単結合手またはつぎの式の基を示し:【化2】R1は水素原子またはメチル基を示し、R2は2-フラニルオキシ基または2-ピラニルオキシ基またはつぎの式の基を示し:【化3】R3はつぎの式の基を示し:-COOH または -CNR4はつぎの式の基から選ばれる基を示し:【化4】R5、R6およびR7は各々C1〜C6のアルキル基またはフェニル基を示し:Yは水素原子または塩素原子またはメチル基を示し:Zは式-OSi(CH3)3の基を示し:mは1、2または3を示し:nは3-mの数を示し:そしてpは0、1、2または3を示し:そしてここで式(III)の多数の構造単位はターポリマー中のシリコン含有量が、7〜20重量%の量となる程度に含まれる。

IPC (14件)：

C08F216/16 MKY ,  C08F216/38 MLC ,  C08F220/06 MLQ ,  C08F220/06 MLR ,  C08F220/06 MLS ,  C08F220/30 MMK ,  C08F220/44 MMY ,  C08F230/08 MNU ,  C09D129/10 PFP ,  C09D129/14 PFQ ,  C09D133/06 PFY ,  C09D143/04 PGL ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/075 511

FI (14件)：

C08F216/16 MKY ,  C08F216/38 MLC ,  C08F220/06 MLQ ,  C08F220/06 MLR ,  C08F220/06 MLS ,  C08F220/30 MMK ,  C08F220/44 MMY ,  C08F230/08 MNU ,  C09D129/10 PFP ,  C09D129/14 PFQ ,  C09D133/06 PFY ,  C09D143/04 PGL ,  G03F 7/039 501 ,  G03F 7/075 511