特許

J-GLOBAL ID：200903090381709900

ノボラック樹脂を合成するための触媒としての酸性イオン交換樹脂およびそれらからのフォトレジスト組成物

発明者： ラーマン・エム・ダリル ,  オービン・ダニエル・ピー ,  コキンダ・エレイン・ジー ,  ダーム・ディナ・エル
出願人/特許権者： クラリアント・インターナショナル・リミテッド
代理人 (1件)： 江崎 光史 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-525223
公開番号（公開出願番号）：特表2000-503693
出願日： 1996年12月17日
公開日（公表日）： 2000年03月28日
要約：

【要約】本発明は、固体酸性縮合触媒を使用して一定範囲の分子量および非常に低レべルの金属イオンを有する水不溶性の水性アルカリ溶解性ノボラック樹脂を製造する方法を提供する。そのようなノボラック樹脂から非常に低レベルの金属イオンを有するフォトレジスト組成物を製造する方法およびそのようなフォトレジスト組成物を使用して半導体デバイスを製造する方法も提供される。

請求項（抜粋）：

a)固体酸性触媒の存在下に、ホルムアルデヒドと一種またはそれ以上のフェノール性化合物とを縮合し、b)縮合の後に、固体触媒を除去し、そしてc)未反応のフェノール性化合物を除去し、そしてそれによってそれぞれ200ppb未満のナトリウムおよび鉄イオンレベルを有する水不溶性の水性アルカリ溶解性フィルム形成性ノボラック樹脂を製造することからなる水不溶性の水性アルカリ溶解性ノボラック樹脂を製造する方法。

IPC (6件)：

C08G 8/08 ,  C08G 8/00 ,  C08L 61/06 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/032 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

C08G 8/08 ,  C08G 8/00 F ,  C08L 61/06 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/032 ,  H01L 21/30 502 R