特許
J-GLOBAL ID：200903090383554572
多結晶シリコン製造用流動層反応器
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-304850
公開番号（公開出願番号）：特開平6-127922
出願日： 1992年10月16日
公開日（公表日）： 1994年05月10日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 多結晶シリコン製造用流動層反応器において、流動層反応器からのシリコン粒子への不純物の混入を長時間にわたって充分に防止することができ、しかも反応器の製造面でも有利である流動層反応器を提供する。【構成】 シリコン粒子を流動化させる流動層反応器において、シリコン粒子が接触する反応器構成部材の少なくとも表面から深さ20μmまでの材料中の不純物元素の各含有重量が100ppm以下でかつ不純物元素の合計含有重量が300ppm以下であり、さらにその反応器構成部材の表面にシリコンコーティング層を設けたことを特徴とする多結晶シリコン製造用流動層反応器。
請求項（抜粋）：
シリコン粒子を流動化させる流動層反応器において、シリコン粒子が接触する反応器構成部材の少なくとも表面から深さ20μmまでの材料中の不純物元素の各含有重量が100ppm以下でかつ不純物元素の合計含有重量が300ppm以下であり、さらにその反応器構成部材の表面にシリコンコーティング層を設けたことを特徴とする多結晶シリコン製造用流動層反応器。
IPC (2件)：
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