特許
J-GLOBAL ID：200903090388857069
基板の洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-231046
公開番号（公開出願番号）：特開平6-084857
出願日： 1992年08月31日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【目的】 ブラシ洗浄後もガラス基板に付着している微小な有機物を除去する。【構成】 洗浄装置はブラシ洗浄槽10と乾燥槽20と精密洗浄槽30とで構成されている。ブラシ洗浄後のガラス基板Rは乾燥槽20を経て精密洗浄槽30に搬送される。ガラス基板Rにはブラシ12a、12bの毛から剥がれたブラシ片等の微小な有機物が付着している。水銀ランプ32a、32bから射出された紫外線はガラス基板Rの表面に付着した微小な有機物を分解除去する。ブラシ12a、12bの毛の材質は照射する紫外光で分解可能な材質とする。
請求項（抜粋）：
表面に凹凸部を有する基板に紫外光を照射する工程と;前記紫外光のエネルギーより小さい結合エネルギーを有する有機物のスクラブ材と前記基板との摩擦により前記基板表面をブラシ洗浄する工程とを有し、前記ブラシ洗浄後に前記基板に紫外光を照射し、前記基板表面に残存した前記スクラブ材のブラシ片を前記紫外光の照射により分解除去することを特徴とする基板の洗浄方法。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 7/04
, G03F 1/08
