特許
J-GLOBAL ID:200903090390986119

Si-C結合を介してケイ素原子に結合した官能基を有するケイ素化合物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-341716
公開番号(公開出願番号):特開2000-159781
出願日: 1998年12月01日
公開日(公表日): 2000年06月13日
要約:
【要約】【課題】 白金触媒を用いる、不飽和基を有する有機化合物とH-Si官能性ケイ素化合物とのヒドロシリル化反応において、高い触媒活性及び安定性を発現し、且つヒドロシリル化反応生成物の位置選択性を高める反応方法を提供する。【解決手段】 HSiRn (O(C=O)R1 )3-n (nは0,1又は2;Rは有機基、シロキシ基又はシロキサノ基;R1 は水素原子又は有機基)で示されるシラン化合物及び白金触媒の存在下に、不飽和基含有の有機化合物又は不飽和基を有する有機ケイ素化合物物と、HR2 m Si(OR3 )3-m (mは0,1又は2;R2 は炭素数1〜10の有機基、R3 は炭素数1〜10の炭化水素基)で示されるヒドロ(ハイドロカーボンオキシ)シラン化合物とを反応させる。
請求項(抜粋):
下記式(1)で示されるヒドロ(アシルオキシ)シラン化合物の存在下に、白金触媒の作用により、不飽和基を有する有機化合物又は不飽和基を有する有機ケイ素化合物と、下記式(2)で示されるヒドロ(ハイドロカーボンオキシ)シラン化合物とを反応させる、Si-C結合を介してケイ素原子に結合した官能基を有するケイ素化合物の製造方法。HSiRn (O(C=O)R1 )3-n (1)(但し、ここに、nは0,1又は2であり、Rはそれぞれ独立に有機基、シロキシ基又はシロキサノキシ基であり、R1 はそれぞれ独立に水素原子又は有機基から選ばれる。)HR2 m Si(OR3 )3-m (2)(但し、ここに、mは0,1又は2であり、R2 はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下の有機基であり、R3 はそれぞれ独立に炭素数1以上10以下の炭化水素基である。)
IPC (3件):
C07F 7/18 ,  B01J 23/42 ,  C07B 61/00 300
FI (3件):
C07F 7/18 X ,  B01J 23/42 X ,  C07B 61/00 300
Fターム (20件):
4H039CA92 ,  4H039CF10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VP09 ,  4H049VQ02 ,  4H049VQ07 ,  4H049VQ21 ,  4H049VQ79 ,  4H049VR22 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VR42 ,  4H049VS03 ,  4H049VS79 ,  4H049VT10 ,  4H049VT17 ,  4H049VV02 ,  4H049VV03 ,  4H049VW32
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特開昭50-024399
審査官引用 (1件)
  • 特開昭50-024399

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