特許
J-GLOBAL ID：200903090398103836
回転式塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-151567
公開番号（公開出願番号）：特開平6-338447
出願日： 1993年05月27日
公開日（公表日）： 1994年12月06日
要約：
【要約】【目的】 回転台の上面への塗布液付着に起因するパーティクルの発生を防止できるようにする。【構成】 角型基板を水平支持した状態で回転させる回転台2と、この回転台2上に支持された角型基板の上面と所定の間隔をもって平行に配備されるとともに回転台2と一体に回転される上部回転板3とを備え、その上部回転板3の中央に開口19を設け、その開口19を開閉する蓋17を閉じ位置と開き位置とに変位可能に設け、回転台2の上面に向けて洗浄液を噴出する洗浄ノズル18を、蓋17を開き位置に変位した状態の開口19を通じて上部回転板3の下方の洗浄位置と上部回転板3の上方の非洗浄位置とに変位可能に固定支持部材16に設ける。
請求項（抜粋）：
基板を水平支持した状態で回転させる回転台と、この回転台上に支持された基板の上面に塗布液を供給する塗布液供給手段とを備えた回転式塗布装置において、前記回転台の上面に向けて洗浄液を噴射する回転台洗浄手段を備えたことを特徴とする回転式塗布装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, B05C 11/08
, G03F 7/16 502
, H01L 21/304 341
