特許

J-GLOBAL ID：200903090402691349

フォトレジストの製造方法

発明者： 市川 幸司
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-034143
公開番号（公開出願番号）：特開平10-232491
出願日： 1997年02月18日
公開日（公表日）： 1998年09月02日
要約：

【要約】【課題】 ポジ型フォトレジストの高波長側での吸光度上昇をなくし、安定的に長期間保存可能なポジ型フォトレジストを製造する。【解決手段】 キノンジアジド系感光剤を水と分離する有機溶剤の溶液の形で水洗し、次いでノボラック樹脂と混合するか、または、ノボラック樹脂およびキノンジアジド系感光剤を溶剤に溶解した形で調製されたフォトレジスト溶液を水洗することにより、ポジ型フォトレジストを製造する。【効果】 得られるポジ型フォトレジストは、700nm付近の吸光度の上昇が抑えられ、長期間安定して保存することができる。

請求項（抜粋）：

ノボラック樹脂およびキノンジアジド系感光剤を溶剤に溶解してなるポジ型フォトレジストを製造する方法であって、該キノンジアジド系感光剤を水と分離する有機溶剤の溶液の形で水洗し、次いでノボラック樹脂と混合するか、または、ノボラック樹脂およびキノンジアジド系感光剤を溶剤に溶解した形で調製されたポジ型フォトレジスト溶液を水洗することを特徴とする、フォトレジストの製造方法。

IPC (5件)：

G03F 7/022 ,  C08G 8/04 ,  C09D161/08 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/022 ,  C08G 8/04 ,  C09D161/08 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R