特許
J-GLOBAL ID:200903090422519119
汚染物質除去用の光触媒シート
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山口 巖
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-211498
公開番号(公開出願番号):特開平9-057096
出願日: 1995年08月21日
公開日(公表日): 1997年03月04日
要約:
【要約】【課題】単位面積当たりの汚染物質除去能力が高く、しかも取扱面でも十分な機械的強度を確保した汚染物質除去用の光触媒シートを提供する。【解決手段】光触媒である二酸化チタンを主成分とする触媒と、該触媒を担持するフッ素樹脂を混合,圧延して形成した多孔質の光触媒シートにおいて、1)光触媒シート中の触媒含有率を50〜95重量%にする。2)また、前記のような組成を持つ光触媒シートの厚さを少なくとも0.6mm以上にする。3)さらに、前記の触媒中にK2 TiO3 , K2 Ti6 O13, Mg(OH)2 , MgO,Ca(OH)2 , Zn(OH)2 , ZnO,Y2 O3 ,Bi2 O3 の少なくとも一種を二酸化チタンの1〜40重量%添加する。上記により、通常の取扱い(運搬,施工)に十分耐える機械的な強度を確保しつつ、環境大気浄化などの用途で除染能力の高い光触媒シートが得られる。
請求項(抜粋):
光照射により活性化する光触媒の触媒反応を利用して汚染物質を酸化,除去するために用いる光触媒シートであり、光触媒である二酸化チタンを主成分とする触媒と、該触媒を担持するフッ素樹脂とを混合,圧延して形成した多孔質の光触媒シートにおいて、該シート中の触媒含有率を50〜95重量%にしたことを特徴とする汚染物質除去用の光触媒シート。
IPC (9件):
B01J 21/06 ZAB
, B01D 53/86 ZAB
, B01D 53/94
, B01J 21/10 ZAB
, B01J 23/02 ZAB
, B01J 23/04 ZAB
, B01J 23/06 ZAB
, B01J 23/10 ZAB
, B01J 23/18 ZAB
FI (9件):
B01J 21/06 ZAB A
, B01J 21/10 ZAB A
, B01J 23/02 ZAB A
, B01J 23/04 ZAB A
, B01J 23/06 ZAB A
, B01J 23/10 ZAB A
, B01J 23/18 ZAB A
, B01D 53/36 ZAB J
, B01D 53/36 102 D
引用特許: