特許

J-GLOBAL ID：200903090425286344

セラミックス膜の形成方法およびセラミックス膜

発明者： 加賀 洋一郎 ,  菊池 広実 ,  渡辺 純一
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-203082
公開番号（公開出願番号）：特開2004-043893
出願日： 2002年07月11日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

【課題】結晶性の高いセラミックス膜の形成方法およびセラミックス膜を提供する。【解決手段】セラミックス粉体を含むエアロゾルを基板に吹き付け、セラミックス粉体を基板に衝突させることによって基板上に膜を成長させるためのセラミックス膜の形成方法において、Cu-Kα線を使用したときのX線回折線の最強度回折線ピークの半値幅が0.3°未満である結晶性の高いセラミックス粉体を用いてセラミックス膜の形成を行う。結晶性の高いセラミックス粉体はセラミックス焼結体を粉砕するか、もしくは水熱合成法により作製する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

セラミックス粉体をガスと攪拌してエアロゾルを作製し、エアロゾル中のセラミックス粉体を基板上に衝突させることで基板上に膜を成長させるセラミックス膜の形成方法であって、Cu-Kα線を使用したときのセラミックス粉体のX線回折パターンの最強度回折線ピークの半値幅が0.3°未満であることを特徴とするセラミックス膜の形成方法。

IPC (4件)：

C23C24/08 ,  C04B41/87 ,  H01L41/187 ,  H01L41/24

FI (4件)：

C23C24/08 C ,  C04B41/87 F ,  H01L41/22 A ,  H01L41/18 101D

Fターム (11件)：

4K044AA06 ,  4K044AA11 ,  4K044AB02 ,  4K044BA11 ,  4K044BB01 ,  4K044BB11 ,  4K044BC14 ,  4K044CA23 ,  4K044CA24 ,  4K044CA51 ,  4K044CA53