特許
J-GLOBAL ID：200903090449377383
水素発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
北村 修一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-206236
公開番号（公開出願番号）：特開2003-020202
出願日： 2001年07月06日
公開日（公表日）： 2003年01月24日
要約：
【要約】【課題】水素生成槽内に貯留される酸性水溶液の液質が劣化し難く、水素の発生効率の低下を抑制することができるようにする。【解決手段】酸性水溶液Aを貯留可能で、且つ、その酸性水溶液A中に水素よりもイオン化傾向の大きな金属M1を浸漬可能に構成される水素生成槽1を、備える水素発生装置であって、前記金属M1から生成される金属イオンを捕集可能であるイオン捕集部Iを設け、前記水素生成槽1内に貯留される酸性水溶液Aを前記イオン捕集部Iを介して循環させる液循環経路3を設けてあるとともに、前記液循環経路3による酸性水溶液Aの循環により前記水素生成槽1内にて形成される酸性水溶液Aの液流動路中に、前記金属M1を浸漬させてある。
請求項（抜粋）：
酸性水溶液を貯留可能で、且つ、その酸性水溶液中に水素よりもイオン化傾向の大きな金属を浸漬可能に構成される水素生成槽を、備える水素発生装置であって、前記金属から生成される金属イオンを捕集可能であるイオン捕集部を設け、前記水素生成槽内に貯留される酸性水溶液を前記イオン捕集部を介して循環させる液循環経路を設けてあるとともに、前記液循環経路による酸性水溶液の循環により前記水素生成槽内にて形成される酸性水溶液の液流動路中に、前記金属を浸漬させてある水素発生装置。
IPC (2件)：
C01B 3/08
, H01M 8/06 ZAB
C01B 3/08 Z
, H01M 8/06 ZAB R
