レジスト硬化装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田原寅之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-139359
公開番号（公開出願番号）：特開2000-331910
出願日： 1999年05月20日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：

【要約】【課題】レジストが塗布されたシリコンウエハをワークステージに真空吸着し、加熱・冷却しながら紫外線を照射してレジスト硬化処理を行っても、シリコンウエハの裏面に擦り傷が生じることのないレジスト硬化装置を提供する。【解決手段】紫外線を照射する光源部と、シリコンウエハを真空吸着するワーク保持手段およびワーク温度制御手段とを有するワークステージ10とからなり、ワークステージの上面に保持されたシリコンウエハを加熱しつつ、シリコンウエハに塗布されたレジストに紫外線を照射して硬化するレジスト硬化装置において、ワークステージの上面とシリコンウエハの間に、Si、SiO2、SiC、Si3N4の何れかの材質からなるプレート60を介在させ、このプレートとシリコンウエハをワークステージに真空吸着した状態で紫外線を照射する。

請求項（抜粋）：

紫外線を照射する光源部と、載置されたワークとしてのシリコンウエハを真空吸着するワーク保持手段および、ワークを加熱・冷却するワーク温度制御手段とを有するワークステージとからなり、ワークステージの上面に保持されたワークを加熱しつつ、ワークに塗布されたレジストに紫外線を照射して硬化するレジスト硬化装置において、ワークステージの上面とワークの間に、Si(シリコン)、SiO2(石英)、SiC(炭化ケイ素)、Si3N4(窒化ケイ素)の何れかの材質からなり、ワークステージからの吸着用真空をワークに作用させる貫通孔が設けられたプレートを介在させ、該プレートとワークとをワーク保持手段にてワークステージに真空吸着した状態で紫外線を照射することを特徴とするレジスト硬化装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 , B05C 9/14 , B05C 13/02 , B05D 3/06 102 , G03F 7/40 501 , H01L 21/68

FI (6件)：

H01L 21/30 567 , B05C 9/14 , B05C 13/02 , B05D 3/06 102 C , G03F 7/40 501 , H01L 21/68 P

Fターム (19件)：

2H096AA25 , 2H096HA03 , 2H096HA30 , 4D075BB46Z , 4D075DA08 , 4D075DC22 , 4F042AA07 , 4F042DB41 , 4F042DF09 , 5F031CA02 , 5F031HA10 , 5F031HA13 , 5F031HA37 , 5F031HA38 , 5F031MA26 , 5F046KA01 , 5F046KA04 , 5F046KA07 , 5F046KA10

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開平3-069111

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