特許

J-GLOBAL ID：200903090453685440

プラズマ処理装置

発明者： 清水 政俊
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-266717
公開番号（公開出願番号）：特開平5-106051
出願日： 1991年10月16日
公開日（公表日）： 1993年04月27日
要約：

【要約】【目的】本発明は、広領域に亘って均一な密度のプラズマを発生しようとするものである。【構成】被処理体が配置されたプラズマ室(11)に反応ガスを供給し、この反応ガスをプラズマ化して被処理体(13)に対する所定の処理を行う際に、プラズマ室(11)の上端部及び下端部の周囲に配置された少なくとも2つの電磁石用コイル(20〜24) の巻数に応じた電力を電源供給手段(26)により供給してプラズマ室(11)内に均一な磁束密度の磁界を発生させ、これにより広領域に均一密度のプラズマを発生させる。

請求項（抜粋）：

被処理体が配置されたプラズマ室に反応ガスを供給し、この反応ガスをプラズマ化して前記被処理体に対する所定の処理を行うプラズマ処理装置において、前記プラズマ室の上端部及び下端部の周囲に配置された少なくとも2つの電磁石用コイルと、これら電磁石用コイルの巻数に応じた電力を供給して前記プラズマ室内に均一な磁束密度の磁界を発生させる電源供給手段とを具備したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

C23C 16/50 ,  B01J 19/08 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46