特許
J-GLOBAL ID：200903090461542136
流動層乾燥機の制御方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩出 真一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-081944
公開番号（公開出願番号）：特開平10-253251
出願日： 1997年03月14日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：
【要約】【課題】 湿潤原料を流動層乾燥機を用いて乾燥させるに際し、種々の操業条件の変化に対応して、常に安定した運転を続行することができ、目標とする処理量及び乾燥度を安定して維持できるようにする。【解決手段】 熱源である排ガスを熱源兼流動化気体として流動層乾燥機(FBD)10に導入して湿潤原料を乾燥させ、FBD10下部に導入されるガスの一部をバイパスさせてFBD排ガス出口24近傍に導入する方法であって、流動層18の安定化のため、FBD導入ガス量Giを一定値に設定するとともに、処理量R及び乾燥度Δmを設定し、排ガス系統、循環系統の結露防止のために、FBD出口排ガス相対湿度Hoを設定し、さらに、熱源の排ガス温度twを測定し、その変動に応じて各制御量(FBD導入ガス温度ti、バイパス排ガス量GB、循環排ガス量GR、熱源の排ガス量Gw)を演算・制御するとともに、変数(Mo、Mi、tB、to)を演算する。
請求項（抜粋）：
熱源である排ガスを熱源兼流動化気体として流動層乾燥機に導入して湿潤原料を乾燥させ、流動層乾燥機下部に導入されるガスの一部をバイパスさせて流動層乾燥機の排ガス出口近傍に導入する方法であって、流動層を安定化させるために流動層乾燥機下部に導入されるガス量を一定値に設定するとともに、湿潤原料の処理量及び乾燥物の乾燥度を設定し、流動層乾燥機の排ガス出口より下流の排ガス系統及び循環系統における結露を防止するために、流動層乾燥機の排ガス出口で昇温された排ガスの温度と湿度とから求められる排ガス相対湿度を設定し、さらに、流動層乾燥機下部に導入されるガスの湿度と流動層内温度との関係から、測定された熱源の排ガス温度の変動に応じて、流動層乾燥機下部に導入されるガスの温度、流動層乾燥機下部に導入されるガスの一部をバイパスして流動層乾燥機の排ガス出口近傍に導入されるガス量、熱源の排ガスに混入させるために流動層乾燥機からの排ガスを除塵してから循環させるガス量、及び熱源の排ガス量を制御することを特徴とする流動層乾燥機の制御方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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