特許
J-GLOBAL ID：200903090472325544
矩形基板の現像方法およびその現像装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-173638
公開番号（公開出願番号）：特開平5-019487
出願日： 1991年07月15日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】【目的】 大型矩形基板上のホトレジストパターンの処理寸法精度を向上させ、現像液使用量を低減する。【構成】 現像槽1内に配置した基板搬送ローラ6と、現像処理時に基板2を搬送ローラ6から持ち上げて水平に支持するリフター11、現像液3を散布するためのフラットスプレーノズル51とこれを移動させるための移動ステージ12とから構成し、フラットスプレーノズル51によるスプレーパターンを基板2の寸法と略々同一とする。【効果】 基板1枚ごとに使用する現像液が常に同じ状態となるため現像後のホトレジストパターン寸法のばらつきがなくなり、現像液使用量が低減され、製品歩留も向上できる。
請求項（抜粋）：
矩形基板上に形成したホトレジストを現像液のスプレーにより現像する矩形基板の現像方法において、前記矩形基板を水平に支持し、支持された前記矩形基板の面に平行で、一方の辺に対して直角な方向に往復移動するスプレーノズルによるスプレーパターンを前記矩形基板の前記一方の辺と平行な略々線状とし、前記矩形基板面における前記略々線状のスプレーパターンの幅が前記矩形基板上の前記一方の辺方向において前記矩形基板の前記一方の辺の長さに略々等しい幅で、かつ前記スプレーパターンの前記基板の前記一方の辺に対して直角な他方の辺方向の移動距離が前記基板の前記他方の辺方向の寸法と略々等しい距離として連続的にスプレーを放射することを特徴とする角形基板の現像方法。
IPC (2件)：
G03F 7/30 501
, H01L 21/027
