特許
J-GLOBAL ID：200903090476276394
裏面にアライメント・マークが設けられたワークの投影露光方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長澤 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-272374
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115812
出願日： 1995年10月20日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：
【要約】【課題】 ワーク裏面のアライメント・マークを用いてマスクとワークの位置合わせを行うことができる投影露光方法および装置を提供すること。【解決手段】 ワークWを設置せずに露光光照射装置1から露光光を照射し、マスクMのアライメント・マークMA像をアライメント・ユニット70のイメージセンサ8上に結像させ、画像処理部9によりその位置を検出する。次に、ワークWをワークステージ5に載置し、アライメント光照射装置6から光を照射して、ワークWのアライメント・マークWAの位置を検出する。そして、マスクMとワークWのアライメント・マークMA,WAが重なり合うようにステージ駆動装置51によりワークステージ5を移動させ、マスクMとワークWの位置合わせを行う。次に、ワークWの露光面とマスクMの結像位置を一致させ、露光光照射装置1より露光光を照射してワークWを露光する。
請求項（抜粋）：
露光光を照射する露光光照射装置と、マスクパターンとアライメント・マークが記されたマスクと、投影レンズと、アライメント・マークが露光面の裏面側に記されたワークと、上記マスクのアライメント・マークとワークのアライメント・マークの位置を検出し両者の位置合わせを行うアライメント検出系とを備え、上記マスクのアライメント・マークと、ワークのアライメント・マークの位置合わせした後、露光光照射装置から照射される露光光によりマスクパターンを投影レンズを介してワーク上に投影してマスクパターンをワークの露光面に露光する投影露光方法において、ワークを設置せずに、マスクパターンとアライメント・マークの結像位置とアライメント検出系の焦点位置を一致させた状態で、マスクのアライメント・マークの位置を検出し、次に、ワークを設置し、ワークのアライメント・マークとアライメント検出系の焦点位置を一致させた状態で、ワークのアライメント・マークの位置を検出し、検出されたマスクとワークのアライメント・マークの位置に基づきマスクのアライメント・マークとワークのアライメント・マークの位置合わせを行い、次にワークの露光面とマスクパターンとアライメント・マークの結像位置を一致させ、露光光照射装置よりマスクと投影レンズを介してワーク上にマスクパターンを投影してワークを露光することを特徴とする投影露光方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L 21/30 520 A
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 514 C
, H01L 21/30 515 D
