特許
J-GLOBAL ID：200903090505408777
回転メッキ装置ならびに回転メッキ方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-102709
公開番号（公開出願番号）：特開平8-296094
出願日： 1995年04月26日
公開日（公表日）： 1996年11月12日
要約：
【要約】【目的】 メッキ時間が短縮できるとともに、メッキ被膜の厚みや品質のばらつきを小さくできる回転メッキ装置ならびに回転メッキ方法を提供する。【構成】 正逆回転可能な円板状基台3の上にメッキ処理液9を透過させて排出するフィルターリング4と一方電極を成す導電性リング5とを配設してなる回転ドーム2にメッキ処理物8を収納し、メッキ処理液9を投入して導電性リング5と他方電極10とにより通電しつつ、回転ドーム2が正回転の回転時間Tr1および逆回転の回転時間Tr2が回転の切り換え時間Ttよりも長い正回転と逆回転とを繰り返すことを特徴とする回転メッキ装置である。
請求項（抜粋）：
一方電極を有し、被メッキ部品と導電性メディアとが収納されかつメッキ処理液が投入される回転ドームと、該回転ドームの回転中心に配される他方電極とから成る回転メッキ装置であって、前記回転ドームは、正逆回転可能な円板状基台の上にメッキ処理液を透過させて排出するフィルターリングと前記一方電極を成す導電性リングとを配設してなるとともに、正回転と逆回転が繰り返し行なわれ、且つ正回転の回転時間Tr1、逆回転の回転時間Tr2、正逆回転の切り換え時間TtがTr1>Tt、Tr2>Ttであることを特徴とする回転メッキ装置。
FI (2件)：
C25D 17/16 B
, C25D 17/16 A
